Beijing Wayes Vacuum Technology Application Co., Ltd.
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09-14
CVD一步法构建二硫族化合物(TMD)的平面内异质结界面
2018-03-12
媒体报道-ALD软文资料
08-09
前驱体源路数 标准3路前驱体管路,1路吹扫管路;
2022-08-09
MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池
反应腔室、设备管路、前驱体源瓶均采用316L不锈钢制作完成;
真正的实现了系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警
控制部分采用PC机远程控制,PLC和触摸屏本地操控,真正的实现了系统集工艺配方
此次交付的TALD原子层沉积镀膜设备是全套联合自主研发的产品:
该系统电气符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。