北京航空航天大学小型磁控溅射镀膜机通过验收

　　2017年10月30日，北京维意真空技术应用有限责任公司完成了向北京航空航天大学交付小型磁控溅射镀膜机的工作。

　　该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内最优的配置，从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。

　　该设备标配2只Φ2英寸永磁靶，一台500W直流溅射电源(用于溅射金属导电材料)，1台300W全自动匹配射频溅射电源(用于溅射绝缘材料)，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

　　可达到的技术指标：

　　1. 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti 优质不锈钢材质，氩弧焊接;

　　2. 样品台尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm 可调，旋转：0-20r/min 可调;

　　3. 真空系统：机械泵(TRP-12,3L/s)+国产分子泵(可选进口分子泵);GDC-25b;电磁挡板阀，DN25mm 限流阀;

　　4.极限真空：8.0×10-4Pa;

　　5.真空抽速：大气～8×10-4Pa ≤ 60min;

　　6.真空测量：全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa;

　　7.磁控靶：Φ2 英寸2 只(含靶挡板)，兼容直流电源和射频电源;

　　8.溅射电源：直流和射频可选;

　　9.质量流量计：20sccm、50sccm 质量流量控制器各一套;

　　10.控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能;

　　11. 设备外形：L60cm×W60cm×H96cm 机电一体化机架，预留1 个KF40 法兰接口;

　　12.设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制(一火一零一地);

　　13.冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水。